產(chǎn)品時間:2024-06-02
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日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極,能夠限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑:60 mm
日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度:20 mm
日立高新磁控濺射器
特點:
采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件
規(guī)格: